您当前的位置:  产品中心 > 半导体专用臭氧发生器

半导体专用臭氧发生器200-500g

该半导体专用臭氧发生器，高臭氧浓度、低耗氧量、低功耗、相关反应性高、低能耗，在半导体清洗刻蚀方面的应用获得二项发明专利。
>详情

半导体专用臭氧发生器40-100g

该半导体专用臭氧发生器，高臭氧浓度、低耗氧量、低功耗、相关反应性高、低能耗，在半导体清洗刻蚀方面的应用获得二项发明专利。
>详情

半导体专用臭氧发生器10-30g

该半导体专用臭氧发生器，高臭氧浓度、低耗氧量、低功耗、相关反应性高、低能耗，在半导体清洗刻蚀方面的应用获得二项发明专利。
>详情
TOP
请您留言

感谢您的关注，当前客服人员不在线，请填写一下您的信息，我们会尽快和您联系。

提交