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HUALONG臭氧水输送系统
华龙半导体公司的溶解臭氧气体输送系统，可在超纯水中稳定提供高纯度臭氧，适用于半导体及电子薄膜制程应用，可实现污染物去除、湿清洗/冲洗法表面调理等工艺需求。臭氧凭借高氧化还原电位，可快速分解为氧气，是传统化学工艺的优质环保替代方案。
系统支持用户自主调控与配置溶解臭氧的浓度和流量，可精准匹配各类应用场景的个性化工艺需求;设备采用模块化多功能机械系统接口，易于融入现代制程设备与产线设施，且集成维护便捷，全面符合最新的行业安全与监控标准要求。
系统支持用户自主调控与配置溶解臭氧的浓度和流量，可精准匹配各类应用场景的个性化工艺需求;设备采用模块化多功能机械系统接口，易于融入现代制程设备与产线设施，且集成维护便捷，全面符合最新的行业安全与监控标准要求。
HL8680全集成模块化臭氧输送系统
HL8680臭氧输送系统可生成并输送高流量、高浓度、超洁净臭氧，适用于先进薄膜制程应用。该设备专为日益多元的半导体制程应用打造，可适配ALD、CVD、TEOS、臭氧CVD等核心工艺。作为全集成模块化系统，其可搭载4台HL8515臭氧发生器，实现臭氧的超高浓度与超大流量输出。
HL8675独立高流量、高浓度臭氧输送系统
HL8675 独立臭氧气体输送系统，专为高流量、高浓度、超清洁臭氧的生成与输送打造。该设备单元拥有极致的工艺适配性，可精准满足半导体行业持续迭代的工艺需求。作为全集成式高输出臭氧气体输送系统，HL8675 量身适配日益多元的半导体工艺应用，包括原子层沉积(ALD)、化学气相沉积(CVD)、四乙基正硅酸盐(TEOS)、臭氧层 CVD(HDSAC-VD光刻胶剥离、晶圆清洗、污染物去除及氧化层生长等。该系统可配置为多通道模式，适配多腔室、多工艺工具的使用需求。HL8675配备机架式冷水机选配项，可适配高浓度工艺的运行要求，其臭氧流量最高可达 40SLM，浓度最高可达350g/Nm3，各项参数均可根据系统配置灵活调节。
大口径冷热能表检定装置DN50-DN300
超声波热表由流量传感器和计算器两个部分组成。按国家计量检定规程要求，超声波热表在进行定型鉴定时应对两个部分分别进行试验，即水流量检定、和计算器检定；出厂检定或强制首检时可进行总量检定或分量组合检定，即能对热量整体或分别对流量传感器、故此，超声波热表量表检定装置都是由两个部分独立的检定装置组合而成，即水流量标准装置、和计算器检定装置两个部分。本装置为双排组合结构，水泵采用变频器控制，并加以微调阀门可保证水流稳定。自动采集天平的数据，自动控制系统并配以专业的检定软件，可保证检定精度。达到快速、高效、准确的检定、计量。
