山东志伟环保科技臭氧技术获突破 半导体清洗刻蚀领域斩获两项发明专利

近日，山东志伟环保科技有限公司在半导体高端制造领域取得重要技术突破，其自主研发的臭氧发生器在半导体晶圆清洗与刻蚀工艺中的应用技术，成功获得两项国家发明专利授权（专利号：ZL 2024 1 1884071.2、2024118840939），标志着公司在高精度环保装备研发领域迈入行业前沿。

随着半导体产业对清洗和刻蚀工艺的精度、环保性要求日益严苛，臭氧技术因高效、无残留、绿色低碳等优势成为行业焦点。此次获授权的专利技术，聚焦臭氧浓度精准控制、气体分布均匀性优化及设备长效稳定运行等核心难点，攻克了传统工艺中效率低、能耗高、二次污染风险大等瓶颈。新技术的应用可显著提升晶圆表面处理均匀度，降低化学品使用量，助力半导体制造企业实现降本增效与环保达标“双赢”。

公司技术总监表示：“两项专利的落地，是团队多年深耕臭氧应用技术的里程碑成果。我们正加速推进技术产业化，为半导体产业链国产化提供高可靠性装备支撑。”目前，相关设备已通过国内头部半导体企业测试，并进入小批量试用阶段。

作为臭氧技术领域的创新领跑者，山东志伟环保科技持续聚焦高端制造与绿色转型需求，此次专利突破不仅彰显了企业的研发实力，也为中国半导体产业自主可控注入新动能。未来，公司将进一步深化产学研合作，赋能“中国芯”智造升级。